3月5日消息,Intel發布了一條特殊的開箱視頻,堪稱史上最貴:他們(men) 從(cong) ASML拿到的全球第一台高NA EUV光刻機,已經開始在美國俄勒岡(gang) 州希爾斯伯勒附近的工廠內(nei) 安裝了。
這台型號為(wei) Twinscan EXE:5000的光刻機著實是個(ge) 龐然大物,運輸過程中動用了250個(ge) 貨箱,總重約150噸,先用飛機從(cong) 荷蘭(lan) 運到俄勒岡(gang) 州波特蘭(lan) ,再用卡車分批次拉到工廠。
目前安裝的還隻是核心組件,全部搞定需要250多名ASML、Intel的工程師,耗時約6個(ge) 月,然後還得花時間調試。
這台光刻機主要作為(wei) 研究之用,將會(hui) 在Intel 18A節點上進行測試,但大規模量產(chan) 得等到剛剛宣布的Intel 14A節點上,時間預計2025-2026年左右 。
該光刻機可以實現8nm的分辨率,而現有低NA光刻機單次曝光隻能做到13nm,同時晶體(ti) 管密度幾乎可以增加3倍。
大家非常關(guan) 心的價(jia) 格上,ASML的說法是大約3.8億(yi) 美元,但這隻是起步價(jia) ,更高配置自然更貴,Intel CEO帕特·基辛格透露在4億(yi) 美元左右,也就是逼近29億(yi) 元。
相比之下,低NA EUV光刻機約為(wei) 1.83億(yi) 美元。
除了Intel,三星、台積電、SK海力士也都訂購了高NA EUV光刻機,首批訂單有數十台。
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